特長
- 最高品質の複合材料薄膜成型
- RHEEDによる単一単層成長制御
- 到達真空度5.0×10 ｍbar以下
- 基板加熱温度1000℃以上
- 6種類のターゲットが追加可能
装置概要および仕様
- https://www.tsstsystems.com/systems/advanced-pulsed-laser-deposition-with-rheed/
- https://www.tsstsystems.com/systems/pulsed-laser-deposition-for-thin-film-growth/
- PLDについて : https://www.tsstsystems.com/research/pld/
- 研究プロジェクト : https://www.tsstsystems.com/research/research-projects/
- TSST研究 : https://www.tsstsystems.com/research/tsst-research/
- PLD科学 : https://www.tsstsystems.com/research/pld-scientific-output/
- 最近の納入実績 : https://www.tsstsystems.com/references/recent-installations/
LightMachinery社製
搭載エキシマレーザー
- エキシマレーザーIPEX-840
- 波長:248nm(KrF)
- 最大パルスエネルギー:450mJ
- 最大繰り返し周波数:200Hz
- 最大平均出力:80W
- ビームサイズ:12x26mm
- 寸法(架台込):1,746x864x508mm
- 冷却方式:水冷式
バキュームチャンバー
- チャンバー形状 : 円柱形
- 到達真空度 : 10 mbar、5.0×10̠ 以下
- 主排気：ターボ（700L/s）、TSP*、イオンゲッター*
- ベークアウト*：ヒートテープ、ベークアウトテント
- プロセスガス：O₂、Ar、N₂、O₃*オートアップ/ダウン圧力制御
ヒーターステージ
- 最高加熱温度：＜1,000℃
- 基板サイズ：＜1インチ、＜2インチ*
- 移動機構：X、Y、Z、傾斜、方位角 シャッター
ターゲットステージ
- 移動機構：X、Y、Z、スキャニングステージ、回転機構*
- ターゲット数 : ＜6個
- ターゲットサイズ：1インチ、2インチ*
高圧力RHEED
- 電子銃：30kV
- プロセス圧力：＜0.5mbar
ロードロック
- 主排気：ターボ（70L/s）
- 到達真空度 : 10 mbar
制御系
-
TSSTコントロールシステム
（成膜レシピ、パラメーターログを含む）
光学系
- スポットサイズ：1.0～3.0mm²