• 9.2～10.8μm波長選択可能
    Impact 4000 シリーズ

     TEA CO2 レーザー

    最大平均出力60W
    最大パルスエネルギー5J
    最大繰り返し周波数150Hz

    IMPACT 4000 は IMPACT 2000 をベースにR&D用途から工業用途まで対応しています。高電圧のスイッチングには、速度の速いサイラトロンを使用しており、TEA CO2レーザーとしては極端に短いパルス幅（100ns前後）を達成しました。オプションには、9.2～10.8μｍの間のCO2発振線から波長を選択できるグレーティング、ビーム品質に優れたTEM00モード化も用意されています。

    数台のIMPACT4000を直列に並べて、1台をTEM00オシレーターとして2台目以降をアンプとして高出力を得るＭＯＰＡ(Master-Oscillator / Power Amplifier)の御相談も承ります。

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  • UV Kub 2

     UV LEDマスク露光装置

    超小型LED露光装置

    26cmキューブ内に収めた超コンパクト露光装置。長寿命LEDのUV全面露光でウォーミングアップ不要。タッチパネル操作で簡単な露光設定。

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  • UV Kub 3

     UV LEDマスク露光装置

    UV-LED マスクアライナーシステム

    UV-KUB3はアライナー機能を搭載したコンパクトで低価格なUV-LED照射装置です。波長は365nm、385nm、405nmから選択することが可能。 ウオーミングアップを必要とせずに10,000時間の長寿命LEDによってΦ4インチまでの基盤または100 x 100mmエリアに全面照射できます。 発散角を2度以下に抑えたコリメート光により、最小露光サイズは2μmを達成。 研究開発部門等において、手軽に省スペースでご利用頂けます。

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  • Dilase シリーズ

     クロエ

    レーザー直描露光装置

    高アスペクト直描露光レーザー直描露光装置. マスクレス、グレースケール露光、最小スポット径0.5μm. 高アスペクト比最大 1:50、長焦点深度による3次元構造物.

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  • Dilase 750

     クロエ

    カスタマイズ可能レーザー直描露光装置

    Dilase750は、Dilaseシリーズの最高峰モデルとして開発された高性能なレーザー直描露光装置です。325nm,375nmまたは405nmのUVレーザーを搭載し、最大12インチまでの基板サイズに対応します。0.5μmの最小スポット径と500mm/sのスキャン速度で高度なマイクロデバイスの開発・作成を応援します。

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  • Dilase 3D

     クロエ

    高解像度3Ｄリソグラフィープリンター

    これまで作成が困難であったトラッピングセル形状のパターンがDilase3Dを使用する事で、
    非常に簡単に作成することができます。
    腸上皮内部シミュレーションの構造を、ヒドロゲル材料の一種PEGDA（ポリエチレングリコールジアクリレート）
    に形成することが可能です。

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